摘要：
ZMPS-ALD01-300原子沉积设备
此设备用于玻璃基板（基板尺寸300×300mm）表面沉积各种薄膜，可以制备出高质量的导电材料、绝缘材料和金属氧化物等纳米薄膜，这些薄膜在传感器、光电器件和阻隔层等方面具有重要应用价值。
设备参数
| 序号 | 项目 | 参数 |
| 1 | 设备尺寸 | 1100×1000×1300mm |
| 2 | 设备重量 | 700kg |
| 3 | 真空泵 | 电压：380V，功率：2.2kW |
| 4 | 真空泵抽速 | 60m³/h |
| 5 | 腔体材质 | SUS310S |
| 6 | 腔体温度 | MAX400℃，工艺温度可根据情况设置，温控精度±1℃，温度均匀性±5% |
| 7 | 气路系统 | 配备质量流量计MFC进行控制入气口为两条单独线路，避免前驱体交叉污染 |
| 8 | 管道温度 | MAX200℃，工艺温度可根据情况设置 |
| 9 | 风刀部件 | 均匀性优于±5% |
| 10 | 标配源的数量 | 两路源 |
基板规格
| 序号 | 项目 | 标准 | 公差 |
| 1 | 尺寸 | 300×300mm以内 | 各边±1mm |
| 2 | 材料 | 玻璃 | / |
| 3 | 厚度 | 1～3.2mm | ±0.2mm |
| 4 | 最大允许弯曲 | 对角线方向≤0.5mm/m | / |
| 5 | 边缘 | C角 | / |
