摘要：
ZMPS-SALD01-300空间原子层沉积设备
此设备用于在玻璃基板（基板尺寸300×300mm）表面沉积各种薄膜，可以制备出高质量的导电材料、绝缘材料和金属氧化物等纳米薄膜，这些薄膜在传感器、光电器件和阻隔层等方面具有重要应用价值。
设备参数
| 序号 | 项目 | 参数 |
| 1 | 设备尺寸 | 1400×1200×2500mm |
| 2 | 设备重量 | 1500kg |
| 3 | 旋涡气泵 | 电压：220V，功率：1.5kW |
| 4 | 旋涡气泵流速 | 240m³/h |
| 5 | 基片台温度 | MAX400℃ |
| 6 | 管路温度 | MAX200℃ |
| 7 | 源瓶温度 | MAX200℃ |
| 8 | 标配源的数量 | 两路源 |
基板规格
| 序号 | 项目 | 标准 | 公差 |
| 1 | 尺寸 | 300×300mm以内 | 各边±1mm |
| 2 | 材料 | 玻璃 | / |
| 3 | 厚度 | 1～3.2mm | ±0.2mm |
| 4 | 最大允许弯曲 | 对角线方向≤0.5mm/m | / |
| 5 | 边缘 | C角 | / |
