摘要：
ZMPS-MSM02-300磁控溅射（三腔三靶位）镀膜设备
此设备多设备用于在玻璃基板（基板尺寸300×300mm）表面沉积NiO、ITO、Cu、SnO2薄膜，传输系统为卧式。
设备参数
| 序号 | 类别 | 项目 | 参数 |
| 1 | 基础参数 | 设备尺寸 | 5700×2000×1700mm |
| 2 | 设备重量 | 6000kg | |
| 3 | 真空量测 | 低真空计 | 5×10-2～1×105Pa（INFICON PSG500） |
| 4 | 高真空计 | 1×10-7～1Pa（INFICON PEG100） | |
| 5 | 制程薄膜规 | 0.0013～13.3Pa（INFICON CDG025D） | |
| 6 | 工艺腔室 | 材质 | SUS304 |
| 7 | 冷却 | 水冷 | |
| 8 | 加热温度 | 室温～500℃ | |
| 9 | 阴极参数 | 阴极类型 | 平面矩形阴极，水冷却型 |
| 10 | 电源类型 | 兼容直流脉冲/中频/射频 | |
| 11 | 靶材背板材质 | SUS304 | |
| 12 | 磁场 | 静态 | |
| 13 | 靶基距 | 90mm | |
| 14 | 靶材固定方式 | 压板固定 | |
| 15 | 阴极布气方式 | 辅气采用两侧布气 | |
| 16 | 工艺气体 | 标配2路气体流量控制，可按需定制 |
基板规格
| 序号 | 项目 | 标准 | 公差 |
| 1 | 尺寸 | 300×300mm | 各边±1mm |
| 2 | 材料 | 玻璃 | / |
| 3 | 厚度 | 1～3.2mm | ±0.2mm |
| 4 | 最大允许弯曲 | 对角线方向≤0.5mm/m | / |
| 5 | 边缘 | C角 | / |
