摘要：
ZMPS-VEC01-100真空蒸镀镀膜设备
此设备用于在玻璃基板（基板尺寸100×100mm）表面沉积C60、BCP、Cu等薄膜。
设备参数
| 序号 | 类别 | 项目 | 参数 |
| 1 | 基础参数 | 设备尺寸 | 3000×1600×2400mm |
| 2 | 设备重量 | 1000kg | |
| 3 | 真空量测 | 低真空计 | 5×10-2～1×105Pa（INFICON PSG500） |
| 4 | 高真空计 | 1×10-7～1Pa（INFICON PEG100） | |
| 5 | 工艺腔室 | 材质 | SUS304 |
| 6 | 蒸发源参数 | 蒸发源类型 | 金属电极蒸发点源/电子枪 |
| 7 | 蒸发物质 | C60、BCP、Cu | |
| 8 | 蒸发距离 | 400～600mm | |
| 9 | 冷却方式 | 水冷 | |
| 10 | 膜厚控制 | 带有3个膜厚探头，1台膜厚仪(四通道)，膜厚显示分辨率0.001Å |
基板规格
| 序号 | 项目 | 标准 | 公差 |
| 1 | 尺寸 | 100×100mm | 各边±0.25mm |
| 2 | 材料 | 玻璃 | / |
| 3 | 厚度 | 1～3.2mm | ±0.2mm |
| 4 | 最大允许弯曲 | 对角线方向≤0.5mm/m | / |
| 5 | 边缘 | C角 | / |
